陶瓷产品分类
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SEM单晶硅片双面抛光实验科研高纯度单晶硅片尺寸可定制
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单晶硅片（双面抛光）
特点：高纯硅si单晶基片，N/P型可选，电阻率0.0001-100欧，可选
生长方式：直拉
晶向：[111]/[100]/[110]
平整度：<1微米（衡量整体翘曲程度）
表面粗糙度：5埃左右（衡量表面微观形貌）
用途：1.PVD/CVD镀膜做衬底
2.用作XRD（X射线衍射分析）、SEM（扫描电镜）、FTIR红外、荧光光谱分析测试 基底、AFM（原子力显微镜）
3.同步辐射实验样品载体
4.分子束外延生长的基底
5.半导体光刻工艺等等
备注：其他尺寸可定制，可开发票。
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品质保证 高水准领先同行业
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